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深圳晶源申请模型文件的生成方法等专利, 生成与目标刻蚀负载效应对应的模型文件 发布日期:2025-02-04 13:08    点击次数:184

金融界2025年1月28日消息,国家知识产权局信息显示,深圳晶源信息技术有限公司申请一项名为“模型文件的生成方法、装置、设备、存储介质及程序产品”的专利,公开号CN119358499A,申请日期为2024年9月。

专利摘要显示,本申请公开了一种模型文件的生成方法、装置、设备、存储介质及程序产品,涉及刻蚀技术领域。该模型文件的生成方法包括:获取芯片版图中多个目标位置点各自对应的目标负载效应数据;根据各目标位置点的坐标位置以及与目标刻蚀负载效应对应的范围划分策略,分别得到与各目标位置点各自对应的多个区域范围;针对各目标位置点,分别计算目标位置点对应的区域范围的区域密度;根据各目标位置点的目标负载效应数据以及对应的各区域范围的区域密度,分别确定各目标位置点受目标刻蚀负载效应的目标影响区域;根据各目标位置点对应的目标影响区域,生成与目标刻蚀负载效应对应的模型文件。

天眼查资料显示,深圳晶源信息技术有限公司,成立于2016年,位于深圳市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析,深圳晶源信息技术有限公司参与招投标项目5次,知识产权方面有商标信息3条,专利信息95条,此外企业还拥有行政许可8个。

本文源自:金融界